|
|
 |
|
|
| 一種紫外光敏復合引發體系及其應用，屬于感光高分子材料技術領域。本發明的紫外光敏復合引發體系由六芳基雙咪唑類化合物、增感劑和供氫體組成，六芳基雙咪唑類化合物重量是供氫體重量的１０～６０倍，增感劑的重量是供氫體重量的１～２０倍。其被用于配制可紫外光聚合的組合物，含有：（ａ）至少一種不飽和可紫外光聚合化合物；（ｂ）至少一種如權利要求１所述的紫外光敏復合引發體系，（ｃ）至少一種選自酚類、醌類、有機金屬類化合物作為阻聚劑。該引發體系可作為烯類單體紫外光聚合引發劑或應用于涂料、油墨、粘合劑光固化涂層材料，光刻膠、印刷版材、光成像材料，全息記錄材料，光學材料，裝飾材料，封裝材料以及三維造型材料。 |
|
|
|
|
|
|
|
|
一種紫外光敏復合引發體系及其應用
一種紫外光敏復合引發體系，其特征是其中包含六芳基雙咪唑類化合物、增感劑和供氫體； 所述六芳基雙咪唑類化合物為通式Ⅰ： ＊＊＊ 通式Ⅰ 其中：Ｒ↓［１］，Ｒ↓［２］，Ｒ↓［３］，Ｒ↓［４］，Ｒ↓［５］，Ｒ↓［６］為芳基基團或取代芳基基團、有共軛л鍵的雜環或取代雜環，它們是彼此相同的或不同的； 所述增感劑為通式Ⅱ的化合物： ＊＊＊ 通式Ⅱ 其中：ｎ為１～４的整數，Ａｒ為芳基基團或取代芳基基團，Ｒ↓［１］，Ｒ↓［２］為１～６個碳的烷烴，Ｒ↓［３］為烷烴或含有羰基、環或雜環基團的烷烴及其衍生物； 所述供氫體含有活潑的氫原子，并且選自通式Ⅲ、或通式Ⅳ： （ｉ）通式Ⅲ：Ｘ－Ｈ的仲胺或硫醇類化合物， 其中：Ｘ是＊＊＊，Ｒ↓［４］Ｓ，ＡｒＳ；Ａｒ為芳基基團或取代芳基基團；Ｒ↓［１］，Ｒ↓［２］，Ｒ↓［３］，Ｒ↓［４］是２～１６個碳的烷基，它們是彼此相同或不相同的； （ｉｉ）通式Ⅳ的仲胺類化合物 ＊＊＊ 通式Ⅳ 其中，環為五元或六元環，Ｒ↓［１］，Ｒ↓［２］，Ｒ↓［３］，Ｒ↓［４］為氫原子，烷烴或烷烴衍生物； 配比范圍分別為：六芳基雙咪唑類化合物重量是供氫體重量的１０～６０倍，增感劑的重量是供氫體重量的１～２０倍。
|
|
|
|
|
|
|
| 專利號: |
200810123413 |
| 申請日: |
2008年6月3日 |
| 公開/公告日: |
2008年11月12日 |
| 授權公告日: |
|
| 申請人/專利權人: |
江南大學、常州市強力化工有限公司 |
| 國家/省市: |
江蘇(32) |
| 郵編: |
214122 |
| 發明/設計人: |
劉曉亞、胡建琪、錢曉春、吳士榮、張勝文、江金強 |
| 代理人: |
時旭丹 劉品超 |
| 專利代理機構: |
無錫市專利事務所(32104) |
| 專利代理機構地址: |
江蘇省無錫市學前街168號(214001) |
| 專利類型: |
發明 |
| 公開號: |
101302257 |
| 公告日: |
|
| 授權日: |
|
| 公告號: |
000000000 |
| 優先權: |
|
| 審批歷史: |
|
| 附圖數: |
0 |
| 頁數: |
10 |
| 權利要求項數: |
2 |
| |
| |
|
